본 발명에서 주사 전자현미경의 전자빔 전류를 제어할 수 있는 포컬 렌스를 활용한 전자빔 전류 제어 장치 및 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 전류제어 장치는 사용자 화면의 스팟 사이즈 범위에 대응하는 전자빔의 제1 전류량과 주사 전자현미경의 스팟 사이즈 제어신호에 대응하는 제2 전류량을 공급하고, Focal Length 조정에 따른 클로스오버의 이동에 근거하여, 전자빔 전류제어 신호를 공급하기 위한 스위칭 신호를 생성하며, 전자빔 전류제어 신호에 대응하는 제3 전류량을 기 설정된 테이블 정보에 기초하여 공급하는 렌즈 컨트롤러; 스위칭 신호에 응답하여 제2 전류량 또는 제3 전류량을 갖는 각각의 신호를 집속렌즈 2(Condenser lens 2)로 제공하고, 제1 전류량을 갖는 신호를 집속렌즈1(Condenser lens 1)로 제공하는 스위치 컨트롤러; 및 렌즈 컨트롤러의 테이블 정보를 저장 관리하는 메모리로 구성된다. 따라서, 본 발명은 가공 시편에 닿는 전자빔의 량 및 전류량이 시편 가공에 필요한 전류량 이하로 제어토록 함으로써, 전자빔을 차단할 수 있는 효과가 있다.