특허(화학)
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본 발명은 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로 네오디뮴을 포함하는 영구자석을 NaOH 용액에 침지시키는 단계; 상기 침지된 영구자석을 산화배소 처리하는 단계; 및 상기 산화배소 처리된 영구자석을 산으로 침출시키는 단계를 포함하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법에 관한 것이다.
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본 발명은 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로 네오디뮴을 포함하는 영구자석을 NaOH 용액에 침지시키는 단계; 상기 침지된 영구자석을 산화배소 처리하는 단계; 및 상기 산화배소 처리된 영구자석을 산으로 침출시키는 단계를 포함하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법에 관한 것이다.
