특허(기계금속)
상품 정보
상품 기본설명
본 발명은 고밀도 플라즈마 발생장치 및 이를 이용한 기판의 플라즈마 처리시스템 및 처리방법에 관한 것으로서, 외주면에 유전체가 형성된 원통형의 기판히터를 구비하는 서셉터; 복수의 캐필러리부들을 가지는 도전성 몸체를 포함하고, 상기 기판히터의 원주방향을 따라 상기 서셉터와 이격되어 배열되는, 적어도 하나 이상의 판상형 전극; 및 유연기판을, 상기 판상형 전극과는 이격되고 상기 서셉터와는 접하도록, 롤투롤 방식으로 감을 수 있는, 한 쌍의 롤들;을 포함하는, 캐필러리부가 구비된 판상형 전극을 이용한 롤투롤 플라즈마 처리 시스템을 제공한다.
상품 상세설명
상품문의
교환/반품
