특허(기계금속)
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본 발명의 기화장치(200)는 열원유체와의 열교환을 통해 액상의 중간매체(LM)를 기화하기 위한 중간매체기화기(220)와, 기화된 기상의 중간매체(GM)와의 열교환을 통해 액화천연가스를 저온의 천연가스로 기화하기 위한 액화천연가스기화기(240)와, 열원유체와의 열교환을 통해 저온의 천연가스를 가열하기 위한 천연가스가온기(260)를 포함하며, 열원유체는 중간매체기화기(220)와 천연가스가온기(260)에 각각 독립적으로 공급된다. 또한, 열원유체와 저온의 천연가스와의 열교환은 대향류방식으로 이루어지고, 열원유체는 천연가스가온기(260) 및 중간매체기화기(220)를 거치면서 각각 약 2.5℃ 정도의 온도강하만이 발생한다.
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