본 발명은 가이드부싱 고주파 열처리 자동화 시스템에 관한 것으로, 모터를 포함하는 베이스와, 상기 베이스의 상부에 원판 형상으로 형성되어 상기 모터의 구동에 의해 회전 작동하는 회전판을 포함하는 턴테이블과; 상기 회전판에 둘레를 따라 동일한 간격으로 구비되어 각각 개별적으로 회전 작동할 수 있으며, 피가공물이 각각 거치되는 거치지그와; 상기 턴테이블의 외측에 설치되어 상기 피가공물을 턴테이블 측으로 이송시키는 공급컨베이어와; 상기 턴테이블과 공급컨베이어의 사이에 2축 LM가이드로 설치되어 상기 공급컨베이어를 통해 공급되는 피가공물을 턴테이블의 거치지그에 픽업/시프트 방식으로 이동 안착시키는 공급유닛과; 상기 턴테이블의 회전 이송으로 정 위치된 피가공물의 표면을 고주파 열처리하는 열처리장치와; 상기 턴테이블의 회전 이송으로 고주파 열처리된 피가공물을 거치지그로부터 픽업/시프트 방식으로 이동 배출시키는 배출유닛과; 상기 배출유닛에 의해 턴테이블에서 배출된 피가공물을 출하 또는 외부로 이송시키는 배출컨베이어를 포함하는 구성으로 가이드부싱의 표면을 경화하기 위해서 자동으로 고주파 열처리를 수행할 수 있으며, 기존에 비해 생산성이 향상되는 가이드부싱 고주파 열처리 자동화 시스템에 관한 것이다.