특허(기계금속)
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본 발명은 플라즈마가 아크로 전이되는 현상을 억제하여 대기압 근처에서도 안정적이면서도 고밀도 플라즈마를 발생시키기 위해, 기판을 안착시키기 위한 판상형 하부전극; 및 상기 판상형 하부전극 상의 원통형 회전 전극을 포함하고, 상기 원통형 회전 전극은, 전원부에 연결되고, 그 외주면 상에 복수의 캐필러리부들을 포함하는 도전성 몸체; 및 상기 복수의 캐필러리부들의 저면부를 노출하도록 그 외의 부분은 절연체 또는 유전체로 차폐하는 것을 포함하는, 플라즈마 발생장치를 제공한다.
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